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申请/专利权人：重庆半岛医疗科技有限公司

摘要：本发明提供本发明提供一种均匀发光的介质阻挡放电光源，包括高压电极、接地电极和柱状密封腔，柱状密封腔包括第一端面和第二端面，所述高压电极布设在所述第一端面上，所述接地电极布设在所述第二端面上，所述第一端面上任一点到所述第二端面的垂直距离相同，所述柱状密封腔内填充有工作气体，当在所述高压电极和接地电极上施加电源电压时，所述柱状密封腔内的工作气体受激发产生光并在所述第二端面上输出。上述介质阻挡放电光源通过高压电极和接地电极连接高压电源来激发柱状密封腔内的工作气体发光，由于柱状密封腔内气体容量相当，且高压电极和接地电极所在端面之间的距离大致相等，故光均匀输出，不存在现有准分子光输出光强不均匀的情况。

主权项：1.一种均匀发光的介质阻挡放电光源，其特征在于，包括：高压电极；接地电极；柱状密封腔，包括第一端面和第二端面，所述高压电极布设在所述第一端面上，所述接地电极布设在所述第二端面上，所述第一端面上任一点到所述第二端面的垂直距离相同，所述柱状密封腔内填充有工作气体，当在所述高压电极和接地电极上施加电源电压时，所述柱状密封腔内的工作气体受激发产生光并在所述第二端面上输出；所述接地电极在所述柱状密封腔的第二端面上所占面积小于所述第二端面面积的20％；所述工作气体为XeCl气体；所述高压电极为同时起反光作用和电极作用的片状电极；所述片状电极为金属镀膜；所述柱状密封腔的第二端面上还设有镀膜，以选择性输出波长为300-320nm的输出光。

全文数据：一种均匀发光的介质阻挡放电光源技术领域[0001]本发明涉及医疗光源技术领域，特别是涉及一种均匀发光的介质阻挡放电光源。背景技术[0002]紫外光疗在皮肤科具有广泛的应用，尤其是牛皮癣，白癜风等疾病的治疗。目前的准分子光308mn存在一些缺陷，诸如治疗面积小，治疗面上输出光强不均匀，发光效率低等状况。发明内容[0003]鉴于以上所述现有技术的缺点，本发明的目的在于提供一种均匀发光的介质阻挡放电光源，用于解决现有准分子光源发光不均的问题。[0004]本发明提供一种均匀发光的介质阻挡放电光源，包括高压电极、接地电极和柱状密封腔，柱状密封腔包括第一端面和第二端面，所述高压电极布设在所述第一端面上，所述接地电极布设在所述第二端面上，所述第一端面上任一点到所述第二端面的垂直距离相同，所述柱状密封腔内填充有工作气体，当在所述高压电极和接地电极上施加电源电压时，所述柱状密封腔内的工作气体受激发产生光并在所述第二端面上输出。[0005]上述介质阻挡放电光源通过高压电极和接地电极连接高压电源来激发柱状密封腔内的工作气体发光，由于柱状密封腔内气体容量相当，且高压电极和接地电极所在端面之间的距离大致相等，故光均匀输出，不存在现有准分子光输出光强不均匀的情况。[0006]在一些实施例中，所述柱状密封腔的形状为圆柱体，所述第一端面和第二端面为所述圆柱体的两个端平面。[0007]在一些实施例中，所述柱状密封腔的形状为长方体，所述第一端面和第二端面为所述长方体的两个非相平面。[0008]在一些实施例中，所述接地电极在所述柱状密封腔的第二端面上所占面积小于所述第二端面面积的20%。[0009]在一些实施例中，所述工作气体为XeCl气体。[0010]在一些实施例中，所述高压电极为以下任一电极结构:线状电极、片状电极或网状电极。[0011]在一些实施例中，所述接地电极为以下任一电极结构:线状电极、片状电极或网状电极。在一些实施例中，所述片状电极为金属镀膜。[0012]在一些实施例中，所述柱状密封腔的第一端面上还设有对光进行反射镀膜。[0013]在一些实施例中，所述柱状密封腔的第二端面上还设有对输出光的波长进行选择性输出的镀膜。[0014]在一些实施例中，所述介质阻挡放电光源的波长为308nm。附图说明[0015]图1显示为本发明一种均匀发光的介质阻挡放电光源的原理示意图。[0016]图2-1显示为本发明中高压电极在柱状密封腔的第一端面上的点状电极结构示意图。[0017]图2-2显示为本发明中高压电极在柱状密封腔的第一端面上的片状电极结构示意图。[0018]图2_3显示为本发明中高压电极在柱状密封腔的第一端面上的网状电极结构示意图。具体实施方式[0019]以下由特定的具体实施例说明本发明的实施方式，熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点及功效。[M20]须知，本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本发明可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本发明所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本发明所揭示的技术内容得能涵盖的范围内。同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”及“一”等的用语，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定本发明可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更技术内容下，当亦视为本发明可实施的范畴。2〇21]见图1，本实施例提供了一种均匀发光的介质阻挡放电光源的原理示意图，如图所示，均匀发光的介质阻挡放电光源包括高压电极100、接地电极200和柱状密封腔300,柱状密封腔3〇〇包括第一端面310和第二端面320,所述高压电极100布设在所述第一端面310上，所述接地电极200布设在所述第二端面320上，所述第一端面310上任一点到所述第二端面320的垂直距离相同，所述柱状密封腔内填充有工作气体400,当在所述高压电极100和接地电极200上施加电源电压时，所述柱状密封腔300内的工作气体4〇〇受激发产生光并在所述第二端面320上输出。[0022]上述介质阻挡放电光源通过高压电极和接地电极连接高压电源来激发柱状密封腔内的工作气体发光，由于柱状密封腔内气体容量相当，且高压电极和接地电极所在端面之间的距离大致相等，故光均匀输出，不存在现有准分子光输出光强不均匀的情况。[0023]在具体实施中，所示工作气体可以被被激发的任何气体，例如，可以为XeCl气体来得到3〇Snm波长的光。其原理为:氯是卤族元素，氙为惰性气体，在正常情况下氯和氙是不会发生反应的，在自然界中也不存在氯和氙的化合物，但在高压和强电场作用下氯可以接受氙的一个电子，形成氯化氙分子，氯化氙不稳定维持的时间很短，很快会解离成为氯和氙，这种不稳定的分子称为准分子，由不稳定的氯化氙准分子受激发而产生的光即为波长308mn的紫外线光。当然，该工作气体还可以为一种卤族单质气体或多种卤族单质气体的组合，甚至还可以为卤族化合物气体，本申请并不限制工作气体的具体类型，其可以根据具体需求来自行选择。[0024]在一实施例中，所述柱状密封腔的形状为圆柱体，所述第一端面和第二端面为所述圆柱体的两个端平面。[0025]在一实施例中，所述柱状密封腔的形状为长方体，所述第一端面和第二端面为所述长方体的两个非相平面。[0026]在一实施例中，所述接地电极在所述柱状密封腔的第二端面上所占面积小于所述第二端面面积的20%。由于接地电极一侧为光的输出端，在进行接地电极设置时，所述接地电极在所述柱状密封腔的第二端面上所占面积小于所述第二端面面积的20%，更优地，所述接地电极在所述柱状密封腔的第二端面上所占面积小于所述第二端面面积的10%。从而可以保证光的输出效率和光强。[0027]在一实施例中，如图2-1至2-3,以柱状密封腔300为长方体为例来说，所述高压电极为以下任一电极结构:线状电极如图2-1、片状电极如图2-2或网状电极如图2-3。[0028]同理，所述接地电极也可以是以下任一电极结构：线状电极、片状电极或网状电极。[0029]基于上述设计，为了实现更大光功率的输出，高压电极为选用片状电极，同时起反光作用和电极作用。例如，可以采用金属镀膜的方式在所述第一端面上来实现所述片状电极。[0030]在一实施例中，由于生成的准分子光，方向性不唯一，朝着各个方向均有，为了实现更大光功率的输出，还需要额外配备反光罩或者实现相同功能的玻璃镀膜反射。例如，可以在所述柱状密封腔的第一端面上设置对光进行反射的镀膜。[0031]在一实施例中，由于准分子光的峰值波长较为集中，但是依旧存在较宽的波长范围。例如，在XeCL准分子光中，峰值波长为3〇8nm，但是依旧存在29〇nm，295nm，320nm，325nm之，的波长，这些波长，不仅仅产生不了疗效，还会有一定的治疗风险，筛选此类波段，具有更高的安全性及疗效。所以，可以在输出端的玻璃管壁上进行镀膜处理，对所需要的波长进行选择性输出，如对300nm-320nm的波长选择性输出。例如，可以在所述柱状密封腔的第二端面上还设有对输出光的波长进行选择性输出的镀膜。[0032]需要说明的是，虽然本发明是在现有准分子光在应用中的不足为出发点来提出改进方案，但本发明所广生的光并不一定局限于准分子光，以及光的波长也不仅限于3〇8nm的紫外光，本领域技术人员可以根据工作气体来进行自行设定。[0033]上述实施例仅例示性说明本发明的原理及其功效，而非用于限制本发明。任何熟悉此、技术的人士皆可在不违目本发明的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本发明所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本发明的权利要求所涵盖。

权利要求：1.一种均匀发光的介质阻挡放电光源，其特征在于，包括：高压电极；接地电极；柱状密封腔，包括第一端面和第二端面，所述高压电极布设在所述第一端面上，所述接地电极布设在所述第二端面上，所述第一端面上任一点到所述第二端面的垂直距离相同，所述柱状密封腔内填充有工作气体，当在所述高压电极和接地电极上施加电源电压时，所述柱状密封腔内的工作气体受激发产生光并在所述第二端面上输出。2.根据权利要求1所述的均匀发光的介质阻挡放电光源，其特征在于:所述柱状密封腔的形状为圆柱体，所述第一端面和第二端面为所述圆柱体的两个端平面。3.根据权利要求1所述的均匀发光的介质阻挡放电光源，其特征在于:所述柱状密封腔的形状为长方体，所述第一端面和第二端面为所述长方体的两个非相平面。4.根据权利要求1所述的均匀发光的介质阻挡放电光源，其特征在于:所述接地电极在所述柱状密封腔的第二端面上所占面积小于所述第二端面面积的20%。5.根据权利要求1所述的均匀发光的介质阻挡放电光源，其特征在于:所述工作气体为XeCl气体。6.根据权利要求1所述的均匀发光的介质阻挡放电光源，其特征在于:所述高压电极为以下任一电极结构:线状电极、片状电极或网状电极。7.根据权利要求1所述的均匀发光的介质阻挡放电光源，其特征在于:所述接地电极为以下任一电极结构:线状电极、片状电极或网状电极。8.根据权利要求6或7所述的均匀发光的介质阻挡放电光源，其特征在于:所述片状电极为金属镀膜。9.根据权利要求1所述的均匀发光的介质阻挡放电光源，其特征在于:所述柱状密封腔的第一端面上还设有对光进行反射镀膜。10.根据权利要求1所述的均匀发光的介质阻挡放电光源，其特征在于:所述柱状密封腔的第二端面上还设有对输出光的波长进行选择性输出的镀膜。

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