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申请/专利权人：朗姆研究公司
摘要：提供了一种用于处理衬底的装置。电容耦合等离子体电极在电容耦合等离子体处理室内。等离子体约束部件在该电容耦合等离子体处理室内，其中该电容耦合等离子体电极和等离子体约束部件中的至少一者包含：金属部件主体，其具有面向等离子体的表面；以及等离子体喷涂层，其在该面向等离子体的表面的上方。
主权项：1.一种用于处理衬底的装置，其包含：电容耦合等离子体处理室；电容耦合等离子体电极，其在所述电容耦合等离子体处理室内；以及等离子体约束部件，其在所述电容耦合等离子体处理室内，其中所述电容耦合等离子体电极和所述等离子体约束部件中的至少一者包含：金属部件主体，其具有面向等离子体的表面；以及等离子体喷涂层，其在所述面向等离子体的表面的上方。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 朗姆研究公司 电容耦合室的涂层部件
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