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申请/专利权人：北京科技大学
摘要：一种高承载高结合力纯α‑Ta涂层及其制备方法，涉及物理气相沉积领域。涂层的晶体结构为单一的体心立方晶格的α相，硬度为550～770HV0.05，涂层由打底层和涂层主体两部分构成，涂层主体通过打底层与基体相连；涂层主体由2～3种不同的交替层依序交替构成；经过等离子体清洗后打底层与基体之间的结合面粗糙度Sa：10～100nm。涂层在10kgf下的维氏压痕无径向裂纹；划痕法中Lc3＞50N，压痕法中150kgf下HRC压痕周围涂层无剥落无径向裂纹。与现有技术相比，本发明可以在低温小于250℃、无昂贵气体仅使用氩气、无需后热处理和无需异质金属打底的情况下获得性能可调控的纯α‑Ta涂层。
主权项：1.一种高承载高结合力纯α-Ta涂层，其特征在于，涂层晶体结构为单一的体心立方晶格的α相，硬度为550～770HV0.05，涂层由打底层和涂层主体两部分构成，涂层主体通过打底层与基体相连；打底层的晶粒尺寸小于涂层主体的晶粒尺寸；涂层主体由2～3种不同的交替层依序交替构成；打底层与基体之间的结合面具有表面浮凸和凹陷，粗糙度Sa：10～100nm；所述结合面的表面浮凸和凹陷具有各向同性；涂层的高承载体现于：涂层在10kgf下的维氏压痕无径向裂纹；涂层的高结合力体现于：划痕法中Lc3＞50N，压痕法中150kgf下HRC压痕周围涂层无剥落无径向裂纹。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京科技大学 一种高承载高结合力纯α-Ta涂层及其制备方法
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