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申请/专利权人：应用材料公司
摘要：用于数字光刻以减少基板区段中的云斑mura的系统、方法及非暂时性计算机可读介质。数字光刻的边界线需要是不可见的。在一个实例中，系统包括处理单元，所述处理单元经配置以打印由控制器提供的虚拟掩模文件。所述控制器经配置以接收数据并且将所述数据转换为虚拟掩模文件，所述虚拟掩模文件具有用于光刻工艺的曝光图案。所述曝光图案包括多个第一区段、及第二区段。每个第一区段沿着所述处理单元的图像投影系统的第一列与每个第二区段形成边界。控制器图案化所述基板。曝光图案包括每个第一区段的第一区段图案，所述第一区段图案横跨cross与第二区段的眼对眼边界，使得边界不可见。
主权项：1.一种系统，包含：处理单元，经配置以打印虚拟掩模文件，所述虚拟掩模文件由与所述处理单元通信的控制器提供，其中所述控制器经配置以：接收数据并且将所述数据转换为所述虚拟掩模文件，所述虚拟掩模文件具有用于光刻工艺的曝光图案，所述曝光图案包括多个第一区段、第二区段、第三区段，及第四区段，其中：每个第一区段沿着所述处理单元的图像投影系统IPS的第一列与每个第二区段形成眼对眼E2E边界；每个第三区段沿着所述处理单元的IPS的第二列与每个第四区段形成所述E2E边界；每个第一区段沿着所述处理单元的IPS的第一相应行与每个第三区段形成桥对桥B2B边界；每个第二区段沿着所述处理单元的图像投影系统IPS的第二相应行与每个第四区段形成所述B2B边界；和使用所述虚拟掩模文件利用所述处理单元图案化，其中所述虚拟掩模文件包括：每个第一区段的第一区段图案，所述第一区段图案横跨与所述第二区段的所述E2E边界及与所述第三区段的所述B2B边界；每个第二区段的第二区段图案，所述第二区段图案横跨与所述第一区段的所述E2E边界及与所述第四区段的所述B2B边界；每个第三区段的第三区段图案，所述第三区段图案横跨与第四区段的所述E2E边界及与第二区段的所述B2B边界；和每个第四区段的第四区段图案，所述第四区段图案横跨与所述第三区段的所述E2E边界及与所述第一区段的所述B2B边界。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 应用材料公司 云斑(MURA)减少方法
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