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摘要：本发明提供一种铜电极IPMC的驱动装置和磁控溅射制备方法，包括：对离子交换膜进行预处理，之后放入磁控溅射室样品平台；在溅射室安装好铜靶材，在设备屏幕端设置气体流量、目标压力、目标功率、样品转速、工艺时间具体参数数值；启动自动工艺程序，对溅射室抽真空，向溅射室中通入工作气体氩气，通过辉光放电，激活铜靶材表面，使氩气分子离子化，形成等离子体，在磁场的作用下，铜靶材被氩离子溅射出铜原子不断的沉积在离子交换膜表面；工艺结束取出铜电极IPMC，对其形状进行裁剪，将其与金属片、导电胶、导线组装成驱动装置，在外加低电压下可以产生弯曲和形变；本发明的镀膜过程能精准控制，并且提高驱动性能。
主权项：1.一种铜电极IPMC的驱动装置，其特征在于，包括铜电极IPMC、铜电极IPMC附属组件；所述铜电极IPMC包括离子交换膜、第一铜电极、第二铜电极；所述铜电极IPMC附属组件包括第一导电胶、第二导电胶、第一金属片、第二金属片、第一金属片焊锡导线、第二金属片焊锡导线；在铜电极IPMC第一铜电极的一端表面均匀涂抹一定厚度和长度的第一导电胶，将第一金属片粘贴在第一导电胶上，再在第一金属片上焊接第一焊锡，第一焊锡连接第一导线，并将第一导线和电源的负极进行连接；在铜电极IPMC第二电极的一端表面均匀涂抹一定厚度和长度的第二导电胶，将第二金属片粘贴在第二导电胶上，再在第二金属片上焊接第二焊锡，第二焊锡连接第二导线，并将第二导线和电源的正极进行连接；接通电源，在一定的电压控制下铜电极IPMC实现弯曲变形。
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百度查询： 中国科学院电工研究所 一种铜电极IPMC的驱动装置和磁控溅射制备方法
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