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一种钝化膜沉积方法、装置以及发光器件 

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申请/专利权人:重庆康佳光电技术研究院有限公司

摘要:本申请提供一种钝化膜沉积方法、装置以及发光二极管,该方法包括:提供一沉积装置,其中,所述沉积装置包括一反应腔室,所述反应腔室中容置有含硅源反应溶液,且所述反应腔室中设有负极;将一待沉积器件置于所述反应腔室内,并将所述待沉积器件与所述沉积装置的正极连接;对所述负极和所述正极通电,以使所述含硅源反应溶液在电场的作用下发生缩聚反应,并在所述待沉积器件的待沉积表面形成硅源附着层;分解所述硅源附着层以在所述待沉积表面形成钝化膜。本申请可有效提高得到钝化膜的质量,保证待沉积器件的光电性能。

主权项:1.一种钝化膜沉积方法,其特征在于,包括:提供一沉积装置,其中,所述沉积装置包括一反应腔室,所述反应腔室中容置有含硅源反应溶液,且所述反应腔室中设有负极;将一待沉积器件置于所述反应腔室内,并将所述待沉积器件与所述沉积装置的正极连接;对所述负极和所述正极通电,以使所述含硅源反应溶液在电场的作用下发生缩聚反应,并在所述待沉积器件的待沉积表面形成硅源附着层;分解所述硅源附着层以在所述待沉积表面形成钝化膜。

全文数据:

权利要求:

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