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申请/专利权人：信越化学工业株式会社
摘要：本发明涉及抗蚀剂下层膜形成用组成物、图案形成方法、及抗蚀剂下层膜形成方法。本发明提供对比已知的抗蚀剂下层膜材料显示了极优良的干蚀刻耐性的抗蚀剂下层膜形成用组成物、使用该组成物于抗蚀剂下层膜材料的图案形成方法、及抗蚀剂下层膜形成方法。一种抗蚀剂下层膜形成用组成物，其特征为：含有A具有下列通式1A表示的结构的聚合物、B下列通式B‑1表示的结构的交联剂、及C有机溶剂，且前述A聚合物不含羟基，前述B交联剂的含量相对于前述A聚合物100质量份为5～50质量份。[化1][化2]
主权项：1.一种抗蚀剂下层膜形成用组成物，其特征为含有A具有下列通式1A表示的结构的聚合物、B下列通式B-1表示的结构的交联剂、及C有机溶剂，该A聚合物不含羟基，该B交联剂的含量相对于该A聚合物100质量份为5～50质量份， 通式1A中，R1为氢原子、卤素原子、及碳数1～20的直链状、分支状、或环状的烃基中的任意者， 通式B-1中，W1及W2各自独立地表示亦可有取代基的苯环或萘环，R2各自独立地表示氢原子或碳数1～20的1价有机基团，X为下式2表示的基团， 式2中，＊表示键结位置。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 信越化学工业株式会社 抗蚀剂下层膜形成用组成物、图案形成方法、及抗蚀剂下层膜形成方法
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