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申请/专利权人：儒芯微电子材料(上海)有限公司
摘要：本实用新型公开了无泄露自循环光刻胶搅拌装置，涉及负性光刻胶技术领域，包括底座、防护机架，输液管，以及搅拌杆，底座的顶部安装有外罐体，外罐体的内部安装有支撑柱，支撑柱的顶部安装有内罐体，底座的表面安装有循环组件，循环组件包括油浴主体，油浴主体的底部设有压力仓。本实用新型提供的无泄露自循环光刻胶搅拌装置通过内罐体顶部开设的开口，进入外罐体与内罐体之间开设的气腔中，挥发溶液通过循环管贯穿外罐体中输入口并延伸到内罐体中进行循环，相较于传统方式，通过加热光刻胶，使得部分光刻胶挥发，以降低光刻胶的粘稠度，利于搅拌的同时，也能对挥发的光刻胶进行收集。
主权项：1.无泄露自循环光刻胶搅拌装置，包括底座1、固定在底座1的防护机架2，安装在防护机架2的输液管11，以及底座1的顶部安装有搅拌杆24，其特征在于，所述底座1的顶部固定安装有外罐体3，所述外罐体3的内部固定安装有支撑柱5，所述支撑柱5的顶部固定安装有内罐体6，所述外罐体3和支撑柱5之间开设有气腔4，所述底座1的表面固定安装有循环组件；所述循环组件包括油浴主体12，所述油浴主体12通过供油管14与内罐体6相通，所述油浴主体12的底部设有压力仓8，所述压力仓8通过导流阀管7与气腔4相通，所述压力仓8的一端设有增压泵9，所述压力仓8的一端设有循环管10。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 儒芯微电子材料(上海)有限公司 无泄露自循环光刻胶搅拌装置
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