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申请/专利权人:常州臻晶半导体有限公司
摘要:本发明涉及清洗技术领域,具体涉及一种清洗设备及其清洗工艺;本发明提供了一种清洗设备,包括:保护壳,所述保护壳上端设置有一敞口;抛光盘,所述抛光盘转动设置在所述保护壳内;第一回流组件,所述第一回流组件可升降的套设在所述抛光盘外壁;第二回流组件,所述第二回流组件可升降的套设在第一回流组件外壁,且所述第二回流组件的水平高度大于所述第一回流组件;其中,第一回流组件与第二回流组件错位时,所述第一回流组件适于回收引导抛光液;第一回流组件和第二回流组件底壁水平高度一致时,所述第二回流组件适于回收引导清洗液。
主权项:1.一种清洗设备,其特征在于,包括:保护壳(1),所述保护壳(1)上端设置有一敞口;抛光盘(2),所述抛光盘(2)转动设置在所述保护壳(1)内;第一回流组件(3),所述第一回流组件(3)可升降的套设在所述抛光盘(2)外壁;第二回流组件(4),所述第二回流组件(4)可升降的套设在第一回流组件(3)外壁,且所述第二回流组件(4)的水平高度大于所述第一回流组件(3);其中,第一回流组件(3)与第二回流组件(4)错位时,所述第一回流组件(3)适于回收引导抛光液;第一回流组件(3)和第二回流组件(4)底壁水平高度一致时,所述第二回流组件(4)适于回收引导清洗液;所述第一回流组件(3)包括:第一平台(31),所述第一平台(31)套设在所述抛光盘(2)外壁,且所述第一平台(31)适于相对所述抛光盘(2)竖直上下移动;定位片(32),若干所述定位片(32)环所述第一平台(31)周向设置,且所述定位片(32)适于沿所述第一平台(31)径向移动;密封圈(33),所述密封圈(33)套设在所述定位片(32)外壁;其中,定位片(32)向外移动时,适于推动所述密封圈(33)向外膨胀形变;所述第一平台(31)内圈的水平高度大于外圈的水平高度;所述第二回流组件(4)包括:第二平台(41),所述第二平台(41)套设在所述第一平台(31)外壁,且所述第二平台(41)与所述第一平台(31)滑动密封;定位环(42),所述定位环(42)固定在所述第二平台(41)底壁,且所述定位环(42)的内径与所述第二平台(41)的内径一致;第一导流管(43),所述第一导流管(43)贯穿所述定位环(42),第一导流管适于引导第一平台(31)上的抛光液向外流动,且第一导流管与所述第一平台(31)联动;其中,第二平台(41)向下移动时,第一导流管被第一平台(31)顶推向外移动。
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