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申请/专利权人：常州臻晶半导体有限公司

摘要：本发明涉及清洗技术领域，具体涉及一种清洗设备及其清洗工艺；本发明提供了一种清洗设备，包括：保护壳，所述保护壳上端设置有一敞口；抛光盘，所述抛光盘转动设置在所述保护壳内；第一回流组件，所述第一回流组件可升降的套设在所述抛光盘外壁；第二回流组件，所述第二回流组件可升降的套设在第一回流组件外壁，且所述第二回流组件的水平高度大于所述第一回流组件；其中，第一回流组件与第二回流组件错位时，所述第一回流组件适于回收引导抛光液；第一回流组件和第二回流组件底壁水平高度一致时，所述第二回流组件适于回收引导清洗液。

主权项：1.一种清洗设备，其特征在于，包括：保护壳（1），所述保护壳（1）上端设置有一敞口；抛光盘（2），所述抛光盘（2）转动设置在所述保护壳（1）内；第一回流组件（3），所述第一回流组件（3）可升降的套设在所述抛光盘（2）外壁；第二回流组件（4），所述第二回流组件（4）可升降的套设在第一回流组件（3）外壁，且所述第二回流组件（4）的水平高度大于所述第一回流组件（3）；其中，第一回流组件（3）与第二回流组件（4）错位时，所述第一回流组件（3）适于回收引导抛光液；第一回流组件（3）和第二回流组件（4）底壁水平高度一致时，所述第二回流组件（4）适于回收引导清洗液；所述第一回流组件（3）包括：第一平台（31），所述第一平台（31）套设在所述抛光盘（2）外壁，且所述第一平台（31）适于相对所述抛光盘（2）竖直上下移动；定位片（32），若干所述定位片（32）环所述第一平台（31）周向设置，且所述定位片（32）适于沿所述第一平台（31）径向移动；密封圈（33），所述密封圈（33）套设在所述定位片（32）外壁；其中，定位片（32）向外移动时，适于推动所述密封圈（33）向外膨胀形变；所述第一平台（31）内圈的水平高度大于外圈的水平高度；所述第二回流组件（4）包括：第二平台（41），所述第二平台（41）套设在所述第一平台（31）外壁，且所述第二平台（41）与所述第一平台（31）滑动密封；定位环（42），所述定位环（42）固定在所述第二平台（41）底壁，且所述定位环（42）的内径与所述第二平台（41）的内径一致；第一导流管（43），所述第一导流管（43）贯穿所述定位环（42），第一导流管适于引导第一平台（31）上的抛光液向外流动，且第一导流管与所述第一平台（31）联动；其中，第二平台（41）向下移动时，第一导流管被第一平台（31）顶推向外移动。

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