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申请/专利权人：吉林大学
摘要：本发明涉及一种基于激光辐照同步创成减反膜与减反微纳结构的方法，属于激光表面改性技术领域。包括以下步骤：对单晶硅进行化学机械抛光，随后清洗并吹干；对抛光后的单晶硅在大气环境下进行纳秒激光线扫描，通过协同调控多个关键加工参数，在单晶硅表面诱导形成二氧化硅薄膜与有序二氧化硅点阵结构；所述二氧化硅薄膜来源于激光诱导的氧化，所述有序二氧化硅点阵结构的形成可归因于二氧化硅颗粒在近场增强效应下的自组织，二者协同调控使得抗反射性能增强。本发明通过激光诱导单晶硅表面化学组成与微纳结构的共同改变以提升单晶硅的抗反射性能，具有过程便捷、绿色环保等优点，在太阳能电池、光电子探测、光学通信等领域具有广泛的应用前景。
主权项：1.一种基于激光辐照同步创成减反膜与减反微纳结构的方法，其特征在于，包括以下步骤：1预处理：对单晶硅进行化学机械抛光处理，随后清洗并吹干，并将清洗后的单晶硅放置于激光加工平台上；2激光辐照处理：对抛光后的单晶硅在大气环境下进行纳秒激光线扫描，通过协同调控多个关键激光加工参数，在单晶硅表面诱导形成二氧化硅薄膜与有序二氧化硅点阵结构，所述二氧化硅薄膜来源于激光诱导的氧化，所述有序二氧化硅点阵结构的形成可归因于二氧化硅颗粒在近场增强效应下的自组织，二者协同调控使得抗反射性能增强，所述的激光辐照参数包括：激光功率为3.92～4.32W,激光扫描速度为2～6mms，激光波长为1064nm，激光脉冲宽度为7ns，激光重复频率为300～500kHz。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 吉林大学 一种基于激光辐照同步创成减反膜与减反微纳结构的方法
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