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纳米压印模板制备方法、光波导制备方法及硅光波导 

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申请/专利权人:张江国家实验室

摘要:本发明提供一种纳米压印模板制备方法及光波导制备方法,其中,纳米压印模板制备方法包括如下步骤:提供表面形成有氧化硅层的衬底;对所述氧化硅层进行图形化处理,使得所述氧化硅层形成图形结构,所述图形结构具有微纳米级的尺寸;以及对形成了所述图形结构的所述衬底进行热处理,制备得到纳米压印模板。本发明的光波导制备方法利用上述纳米压印模板进行纳米压印,从而制得低损耗的光波导。

主权项:1.一种纳米压印模板制备方法,所述方法包括如下步骤:提供表面形成有氧化硅SiO2层的衬底;对所述氧化硅层进行图形化处理,使得所述氧化硅层形成图形结构,所述图形结构具有微纳米级的尺寸;以及对形成了所述图形结构的所述衬底进行热处理,制备得到所述纳米压印模板。

全文数据:

权利要求:

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