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利用水热法原位制备高浓度氧空位CeO2/g-C3N4光催化剂及其光催化应用 

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申请/专利权人:常州工程职业技术学院

摘要:本发明属于光催化剂制备领域,公开了利用水热法原位制备高浓度氧空位CeO2g‑C3N4光催化剂及其光催化应用。本发明将g‑C3N4和铈盐加入反应釜中,在乙醇和水混合溶剂下水热反应,得到高浓度氧空位的CeO2g‑C3N4纳米复合异质结催化剂。本发明通过水热反应,使高浓度氧空位CeO2原位生长在g‑C3N4表面,并且在特定的水热条件下一是可获得具有高氧空位含量的八面体的CeO2,二是易于控制八面体的CeO2纳米颗粒的负载量,使g‑C3N4与CeO2之间建立的紧密界面异质结关系,使其产生的光生电荷得到有效分离,在催化乙醛有毒挥发性污染物生成二氧化碳应用中,具有较高的光催化活性。

主权项:1.一种利用水热法原位制备高浓度氧空位CeO2g-C3N4纳米复合异质结光催化剂的方法,其特征在于:所述制备步骤为:1称量三聚氰胺粉体放入坩埚中,置于程序升温电炉中,在空气气氛下加热至450~550℃,并在该温度下保持3~5h,冷却至室温后将得到的样品研磨,得到g-C3N4粉体;2称取步骤1g-C3N4粉体和铈盐加入反应釜中,在乙醇和水的混合溶剂中搅拌分散后,进行140~170℃水热反应,反应后,离心、干燥、研磨,得到产物CeO2g-C3N4;混合溶剂中乙醇和水的体积比为10~30:10~30。

全文数据:

权利要求:

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