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申请/专利权人:新加坡国立大学
摘要:一种光电平台结构和一种制造光电平台结构的方法。该方法包括以下步骤:提供衬底,并在衬底表面上沉积BaTiO3、BTO薄膜,该BTO薄膜具有适用于单模操作的厚度,该单模操作具有一种或多种可能的偏振配置,在工作波长或波长范围内在BTO薄膜中具有光学限制;其中,选择衬底以在垂直于衬底表面的方向上提供垂直折射率限制,用于在该工作波长或波长范围内在该BTO薄膜中的单模操作光学限制。
主权项:1.一种用于光电平台的结构,包括:衬底,和BaTiO3薄膜,所述BaTiO3薄膜沉积在所述衬底的表面上并且具有适用于单模操作的厚度,所述单模操作具有一种或多种可能的偏振配置,在400nm至1600nm的工作波长范围内在所述BaTiO3薄膜中具有光学限制;其中,所述衬底在垂直于所述衬底的所述表面的方向上提供垂直折射率限制,以用于实现在所述工作波长范围内在所述BaTiO3薄膜中的所述单模操作光学限制;并且其中,所述衬底包括由以下各项组成的组中的一种:La0.3Sr0.7Al0.65Ta0.35O3、LaSrAlO4、DyScO3、GdScO3、SmScO3、TbScO3、NdScO3、HoScO3、ErScO3、TmScO3、YbScO3、LuScO3、PrScO3、LaScO3、YScO3,其中,所述BaTiO3薄膜的厚度的范围在500nm至850nm之间,从而使得所述BaTiO3薄膜处于部分松弛状态,在所述部分松弛状态下的所述BaTiO3薄膜的居里温度高于块状BaTiO3的居里温度且低于完全应变的BaTiO3薄膜的居里温度。
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百度查询: 新加坡国立大学 光电平台结构和制造光电平台结构的方法
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