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申请/专利权人：武汉宇恩防伪技术有限公司;湖北联合天诚防伪技术股份有限公司
摘要：本发明涉及应用于蚀刻设备领域的一种微缩蚀刻辅助曝光设备，包括包括真空吸附平台，真空吸附平台上端通过支撑顶板固定有曝光灯；真空吸附平台上表面开设有多个均匀分布的气孔，真空吸附平台下端通过固定架固定有真空泵，真空泵通过抽气管与多个气孔连通；真空吸附平台上安装有用于对母版以及掩膜版进行限位的限位件，真空吸附平台上还铺设有透明薄膜，采用上述真空吸附平台、透明薄膜以及限位件等结构，实现真空吸附后透明薄膜的压力能使掩膜版和母版紧密的结合在一起，保证曝光图案更清晰，本方案通过抽真空吸附的方式解决了传统手工压版在母版和掩膜版之间会存在缝隙的问题，使产品制作效率大大提高，且成品质量更高。
主权项：1.一种微缩蚀刻辅助曝光设备，包括真空吸附平台1，所述真空吸附平台1上端通过支撑顶板固定有曝光灯2，其特征在于：所述真空吸附平台1上表面开设有多个均匀分布的气孔5，所述真空吸附平台1下端通过固定架固定有真空泵3，所述真空泵3通过抽气管4与多个气孔5连通；所述真空吸附平台1上安装有用于对母版100以及掩膜版200进行限位的限位件，所述真空吸附平台1上还铺设有透明薄膜8，所述真空泵3作业时将通过气孔5将透明薄膜8内的空气抽出形成真空，使得所述透明薄膜8收缩紧密包裹在母版100和掩膜版200外侧；所述母版100和掩膜版200叠放在真空吸附平台1上，且所述掩膜版200位于母版100上方。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 武汉宇恩防伪技术有限公司 湖北联合天诚防伪技术股份有限公司 一种微缩蚀刻辅助曝光设备
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