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申请/专利权人：上海鲲游科技有限公司
摘要：本实用新型提供了一种压印母版，包括基底，在基底上设置第一结构区域和第二结构区域，所述第二结构区域被配置为围绕所述第一结构区域，所述第一结构区域被用于形成光学结构，所述第二结构区域被用于形成补偿结构，所述补偿结构用于容纳在纳米压印过程中所溢出的压印材料，所述第二结构区域的高度大于所述第一结构区域的高度；通过压印母版翻模形成子版，再利用子版进行压印，能够在光学结构周缘部形成补偿结构，解决了现有技术中在压印时底部残留压印材料起伏的问题，提高压印的光学结构的高度均一性，使得残留的压印材料厚度相同，进而使得光学结构高度均相等，从而改善和提高光学结构的光学性能，具有一定的有益的技术效果。
主权项：1.一种压印母版，其特征在于，包括基底，在基底上设置第一结构区域和第二结构区域，所述第二结构区域被配置为围绕所述第一结构区域，所述第一结构区域被用于形成光学结构，所述第二结构区域被用于形成补偿结构，所述补偿结构用于容纳在纳米压印过程中所溢出的压印材料，所述第二结构区域的高度大于所述第一结构区域的高度。
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百度查询： 上海鲲游科技有限公司 一种压印母版
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