买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!
申请/专利权人:富士胶片电子材料美国有限公司
摘要:本公开内容涉及一种抛光组成物,其包括研磨剂、至少两种pH调节剂、阻挡膜移除速率增强剂、低k移除速率抑制剂及含唑腐蚀抑制剂。本公开内容的特征亦在于一种使用所述抛光组成物来抛光含有铜和氧化硅的基板的方法。
主权项:1.一种抛光组成物,包含:一研磨剂;至少两种pH调节剂,包含至少一种无机碱及至少一种有机碱,其中,所述至少一种有机碱与所述至少一种无机碱的摩尔比为约0.05至约2;一阻挡膜移除速率增强剂;一低k移除速率抑制剂;以及一含唑腐蚀抑制剂。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 富士胶片电子材料美国有限公司 抛光组成物及其使用方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。