龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
摘要：提供下述保护膜形成用组合物、使用该组合物而制造的保护膜、带有抗蚀剂图案的基板、和半导体装置的制造方法，上述保护膜形成用组合物具有在半导体基板加工时对湿蚀刻液的良好的掩模保护功能、高干蚀刻速度，进一步对高低差基板也被覆性良好，埋入后的膜厚差小，能够形成平坦的膜。一种针对半导体用湿蚀刻液的保护膜形成用组合物，包含：末端具有分子内包含至少1组彼此相邻的2个羟基的结构的聚合物、和有机溶剂。上述分子内包含彼此相邻的2个羟基的结构可以为1,2‑乙二醇结构A。
主权项：1.一种针对半导体用湿蚀刻液的保护膜形成用组合物，包含：末端具有分子内包含至少1组彼此相邻的2个羟基的结构的聚合物、和有机溶剂，所述分子内包含至少1组彼此相邻的2个羟基的结构包含式1所示的1,2-乙二醇结构A， 在式1中，X表示-COO-、-OCO-、-O-、-S-或-NR1-中的任一者，R1表示氢原子或甲基；Y表示直接键合或可以被取代的碳原子数1～4的亚烷基；R2、R3和R4各自为氢原子、可以被取代的碳原子数1～10的烷基或可以被取代的碳原子数6～40的芳基，R2可以与R3或R4一起形成环，所述聚合物为二环氧化合物B与2官能以上的产质子化合物C的反应生成物。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 日产化学株式会社 包含末端具有二醇结构的聚合生成物的药液耐性保护膜形成用组合物
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号