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靶材料、高亮度EUV源和产生EUV辐射的方法 

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申请/专利权人:ISTEQ私人有限公司;ISTEQ集团控股有限公司

摘要:本发明涉及一种用于产生发射EUV辐射的等离子体的含Li靶材料。靶材料可以是具有至少一种其它元素的Li基组合物。作为示例,该其它的元素可以从包括Au、Ag、Bi、Ba、Sr的组中选择。该组合物被配置为与Li的密度相比增加靶材料的密度多次。结果,与Li靶相比,碎片颗粒的液滴部分的速度可以急剧减小,这使得可以控制由于靶的高速度而使其离开等离子体的方向。靶材料优选用于激光产生的等离子体光源中。这种光源可以具有快速旋转的靶例如至少100ms。靶材料可以允许产生设计用于宽范围应用的具有高光谱亮度的紧凑低碎片EUV光源。

主权项:1.一种用于等离子体源中的靶材料,所述靶材料被构造和布置成产生具有极紫外EUV范围中的波长的辐射束8,其特征在于,所述靶材料包括具有至少一种其它元素的锂Li基组合物,其中所述组合物被配置为使所述靶材料的密度与Li的密度相比增加超过三倍。

全文数据:

权利要求:

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