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申请/专利权人:三井化学株式会社
摘要:本发明提供抑制了从粘接层产生释气的防护膜组件。防护膜组件100具有:防护膜101;支撑上述防护膜的支撑框103;设置于上述支撑框的突起部105;设置于上述突起部的第1粘接层107;以及无机物层,上述无机物层与上述第1粘接层相比设置在上述防护膜所处的一侧。上述无机物层可以包含第1无机物层109,上述第1无机物层109设置于上述第1粘接层中作为与上述防护膜交叉的方向的侧面的、上述防护膜所处一侧的第1侧面121。
主权项:1.一种防护膜组件,其具有:防护膜;支撑所述防护膜的支撑框;设置于所述支撑框的突起部;设置于所述突起部的第1粘接层;以及无机物层,所述无机物层与所述第1粘接层相比设置在所述防护膜所处的一侧,所述无机物层的厚度为50nm以上1μm以下,所述无机物层包含第1无机物层,所述第1无机物层设置于所述第1粘接层中作为与所述防护膜交叉的方向的侧面的、所述防护膜所处一侧的第1侧面。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 三井化学株式会社 防护膜组件、曝光原版、曝光装置及半导体装置的制造方法
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