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申请/专利权人：华中科技大学;上海精测半导体技术有限公司
摘要：本发明属于X射线散射测量相关技术领域，其公开了一种基于X射线的纳米结构参数提取方法及装置，其中方法包括：S1，对标准样品进行X射线散射测量，根据散射强度建模公式以及标准样品的已知绝对散射强度，计算标定因子；S2，对待测样品进行X射线散射测量，根据散射强度建模公式以及标定因子，获取待测样品的绝对散射强度的测量值；S3，通过仿真获取待测样品的绝对散射强度的仿真值，根据仿真值与测量值的差异，优化获取待测样品的尺寸参数信息。本发明提出先标定待测样品的小角X射线绝对散射强度，然后利用绝对散射强度的测量值对仿真值进行优化，进而提取出尺寸参数信息，能够在单入射角下实现纳米结构X射线关键尺寸快速测量。
主权项：1.一种基于X射线的纳米结构参数提取方法，其特征在于，包括：S1，对标准样品进行X射线散射测量，记录对应的散射光强，根据纳米结构的散射强度建模公式以及标准样品的已知绝对散射强度曲线，计算散射强度建模公式中的标定因子；S2，对待测样品进行X射线散射测量，记录对应的散射光强，根据散射强度建模公式以及标定因子，获取待测样品的绝对散射强度的测量值；S3，预先设定所述待测样品的尺寸参数，通过仿真获取所述待测样品的绝对散射强度的仿真值，根据所述仿真值与所述测量值的差异，优化获取所述待测样品的尺寸参数信息。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 华中科技大学 上海精测半导体技术有限公司 一种基于X射线的纳米结构参数提取方法及装置
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