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一种CoFeSiB合金靶材及其制备方法 

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申请/专利权人:先导薄膜材料(广东)有限公司

摘要:本发明属于磁记录靶材领域,具体公开一种CoFeSiB合金靶材及其制备方法。本发明所述CoFeSiB合金靶材,包括如下质量百分含量的元素组分:钴元素82‑88%,铁元素4‑6%,硅元素7‑9%,硼元素1‑3%。本发明所述CoFeSiB合金靶材成分均匀、准确,氧含量极低,晶粒尺寸均匀细小,靶材透磁率高,在后续应用中表现出良好的溅射效果。

主权项:1.一种CoFeSiB合金靶材的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:1配料:按所述CoFeSiB合金靶材中的元素组分及含量称取钴金属、铁金属、晶体硅和晶体硼进行配料,且称取晶体硼时,应当在所述CoFeSiB合金靶材中硼元素质量百分含量的基础上增加0.4-0.6%的3N的晶体硼,得到混合物料;所述CoFeSiB合金靶材包括如下质量百分含量的元素组分:钴元素82-88%,铁元素4-6%,硅元素7-9%,硼元素1-3%;2熔炼:在惰性气体氛围下,将所述混合物料进行熔炼,将熔炼后的熔体降温至1250-1400℃,得到合金熔体;所述熔炼的温度为1500-1600℃,所述熔炼的时间为5-20min;3合金浇铸:先将浇铸模具加热至400-500℃,并在浇铸模具震动的情况下,将所述合金熔体浇铸到浇铸模具中,然后在浇铸模具中进行保温,再在浇铸模具外通过水对浇铸模具及合金熔体进行冷却,得到合金锭;所述保温的温度为400-500℃,所述保温的时间为10-40s;4退火:在真空条件下,将所述合金锭进行退火处理,得到所述CoFeSiB合金靶材;所述退火处理的温度为200-300℃,所述退火的时间为2-6h。

全文数据:

权利要求:

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