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图案化组合物、图案化薄膜、图案化基底、半导体器件及其制备方法 

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申请/专利权人:珠海基石科技有限公司

摘要:本申请实施例提供了图案化组合物、图案化薄膜、图案化基底、半导体器件及其制备方法。上述图案化组合物包括金属团簇、捕捉剂以及溶剂;所述捕捉剂包括自由基捕捉剂、光捕捉剂和电子捕捉剂中的一种或多种;所述金属团簇包括有机金属氧团簇和或有机锡簇;该图案化组合物的曝光性能较好,曝光后形成的图案的均一性较优,可应用于高精度半导体器件的制备。

主权项:1.一种图案化组合物,其特征在于,包括金属团簇、捕捉剂以及溶剂;所述捕捉剂包括自由基捕捉剂、光捕捉剂和电子捕捉剂中的一种或多种;所述金属团簇包括有机锡簇;所述有机锡簇包括化学结构如式1和或式2所示的结构: 式1, 式2;其中,X为O或S或NH,R为取代或非取代或主链上含有杂原子的烷基、取代或非取代的环烷基,R’为取代或非取代或主链上含有杂原子的烷基、或取代或非取代的芳基。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 珠海基石科技有限公司 图案化组合物、图案化薄膜、图案化基底、半导体器件及其制备方法

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