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申请/专利权人：浙江大学
摘要：本发明公开了一种基于电光偏摆移相与同步像旋的干涉光刻系统和方法，本发明通过控制激光相位与空间分布调制模块实现对两路偏振光的相位的调制，从而能够灵活调控干涉条纹的位置，还能够通过改变两路偏振光的光束角度来调制平行出射的两束激光束的间距，从而能够灵活调控干涉条纹的排列周期，本发明还通过控制像旋模块实现对两束激光束的可控旋转，从而能够灵活调控干涉条纹的周期方向，综上，本发明能够实现对干涉图案的灵活调控。由于本发明调控的模块较少，仅控制激光相位与空间分布调制模块和像旋模块，因此在调控过程中所引起的误差较少，从而调控的准确性较高。
主权项：1.一种基于电光偏摆移相与同步像旋的干涉光刻系统，其特征在于，包括：激光输出模块，用于产生和校准激光；激光分束与偏振调制模块，用于将校准的激光转换为偏振光，还用将平行偏振光分束为两束激光束，并调控其中一束激光束的偏振方向，使得两束激光束的偏振方向一致；激光相位与空间分布调制模块，用于调控偏振光的方向形成两路偏振光，并调控两路偏振光的相位差，还用于通过调控两路偏振光的传播方向，使得两路偏振光通过扫描透镜形成平行偏振光，同时能够通过改变两路偏振光的光束角度调控平行出射的两束激光束的间距，还用于通过改变两束激光束的传播方向得到平行出射的两束激光束；像旋模块，用于旋转平行出射的两束或任意一束激光束，使得两束或任意一束激光束所在的平面发生改变；激光合束直写模块，用于将旋转后的两束平行出射激光束聚焦在光刻胶上形成干涉条纹图案；照明监测模块，用于照射干涉条纹图案得到散射的光，并将散射的光聚焦到相机，通过相机拍摄得到干涉条纹图案的图像；采集控制模块，用于接收干涉条纹图案的图像，并同步控制激光相位与空间分布调制模块和像旋模块，以调整干涉条纹图案。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 浙江大学 一种基于电光偏摆移相与同步像旋的干涉光刻系统和方法
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