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基板处理装置及基板处理方法 

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申请/专利权人:株式会社斯库林集团

摘要:本发明具备:处理腔室,具有用以处理基板的处理空间;支撑部,以水平姿势支撑基板且收容于处理空间;流体供给部,通过向处理腔室供给处理流体,在处理空间中使处理流体在固定方向流动;以及流体排出部,从处理腔室排出处理流体。支撑部具有与基板的下表面对向的基板对向面,将基板以从基板对向面向上方离开的状态加以支撑,在处理流体中的在基板与支撑部之间流动的处理流体的层流的路径中,位于固定方向的下游侧的下游路径较位于固定方向的上游侧的上游路径更宽。因此,当通过处理流体从基板去除液体时,能够防止该液体再次附着于基板。

主权项:1.一种基板处理装置,通过超临界状态的处理流体来处理附着了液体的基板,其中,具备:处理腔室,具有用以处理所述基板的处理空间;支撑部,以水平姿势支撑所述基板且收容于所述处理空间;流体供给部,通过向所述处理腔室供给所述处理流体,在所述处理空间中使所述处理流体向固定方向流动;以及流体排出部,从所述处理腔室排出所述处理流体;所述支撑部具有与所述基板的下表面对向的基板对向面,将所述基板以从所述基板对向面向上方离开的状态加以支撑;在所述处理流体中的在所述基板与所述支撑部之间流动的处理流体的层流的路径中,位于所述固定方向的下游侧的下游路径较位于所述固定方向的上游侧的上游路径更宽。

全文数据:

权利要求:

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