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申请/专利权人：深圳臻像科技有限公司;北京邮电大学
摘要：本发明涉及光刻机光学设备技术领域，为了解决半导体制造成本高和难度大的技术问题，本发明公开了利用光场显示进行高精度测量的光刻机对准系统及方法，包括掩模边框和工件台，工件台和掩模边框之间设置有投影物镜，还设置有同轴对准系统，包括分别设置于掩模边框和工件台的用于产生高精度对准图案的上对位显示器和下对位显示器，固定设置于投影物镜周侧的上控光组件和下控光组件，还设置有透过上控光组件采集上部光场信息变化的第一采集装置和透过下控光组件采集下部光场信息变化的第二采集装置。对位显示器显示高精度对准图案，控光组件和采集装置配合使用，可以获得纳米级的对准精度，并且结构复杂性较低，减少半导体制造成本和难度。
主权项：1.利用光场显示进行高精度测量的光刻机对准系统，包括掩模边框10和设置在掩模边框10下方与其平行的工件台30，所述工件台30和掩模边框10之间设置有投影物镜20；设置有离轴对准系统，其特征在于，还设置有同轴对准系统，包括分别设置于掩模边框10和工件台30的用于产生高精度对准图案的上对位显示器11、下对位显示器31，固定设置于投影物镜20周侧的上控光组件21和下控光组件22，还设置有透过上控光组件21采集上部光场信息变化的第一采集装置23和透过下控光组件22采集下部光场信息变化的第二采集装置24。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 深圳臻像科技有限公司 北京邮电大学 利用光场显示进行高精度测量的光刻机对准系统及方法
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