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申请/专利权人：芯联集成电路制造股份有限公司
摘要：本实用新型提供一种外延设备，外延设备包括：腔体，包括第一腔体和第二腔体；基座，设置于腔体内，用于承载衬底；第一腔体和基座之间形成有反应空间，第二腔体和基座之间形成有吹扫空间；第一内衬环和第二内衬环，设置于腔体内且分别位于第一腔体的边缘和第二腔体的边缘；第一内衬环和第二内衬环之间形成有用于反应气体进入反应空间的第一进气口和用于反应气体流出反应空间的第一出气口；其中，第二腔体上设置有用于吹扫气体进入吹扫空间的第二进气口，第二内衬环靠近第一出气口的部位中设置有用于吹扫气体流出吹扫空间的第二出气口。本申请可以提高外延层边缘厚度的均匀性，解决外延层边缘偏薄的问题，并提高腔体的PM周期。
主权项：1.一种外延设备，其特征在于，所述外延设备包括：腔体，包括第一腔体和第二腔体；基座，设置于所述腔体内，用于承载衬底；所述第一腔体和所述基座之间形成有反应空间，所述第二腔体和所述基座之间形成有吹扫空间；第一内衬环和第二内衬环，设置于所述腔体内且分别位于所述第一腔体的边缘和所述第二腔体的边缘；所述第一内衬环和所述第二内衬环之间形成有用于反应气体进入所述反应空间的第一进气口和用于反应气体流出所述反应空间的第一出气口；其中，所述第二腔体上设置有用于吹扫气体进入所述吹扫空间的第二进气口，所述第二内衬环靠近所述第一出气口的部位中设置有用于吹扫气体流出所述吹扫空间的第二出气口。
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权利要求：
百度查询： 芯联集成电路制造股份有限公司 外延设备
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