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申请/专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
摘要：一种半导体制程工具、气流加速器及处理半导体装置的方法，气流加速器可以包括主体部分，以及一包括与主体部分一体形成的第一端的锥形主体部分。气流加速器可包括与主体部分连接的入口端口，并用于接收将由主泵送线路从半导体制程工具中移除的制程气体。半导体制程工具可包括吸盘及用以向吸盘施加真空以固定半导体装置的吸盘真空线路。锥形主体部分可配置以产生制程气体的旋转流动，以防止制程副产物在主泵送线路的内壁上堆积。气流加速器可包括与锥形主体部分的第二端一体形成的出口端口。吸盘真空线路的末端部分可以通过出口端口提供。
主权项：1.一种半导体制程工具，其特征在于，包括：一制程腔室主体；一进气线，其连结至该制程腔室主体并用于提供一制程气体至该制程腔室主体；一吸盘，其位于该制程腔室主体内并用于支撑待由该半导体制程工具处理的一半导体装置；一吸盘真空线路，其连结至该吸盘并用于提供该吸盘一真空以保持该半导体装置靠在该吸盘上；一主泵送线路，其连结至该制程腔室主体并用于在处理该半导体装置后从该制程腔室主体移除该制程气体，其中该吸盘真空线路的一末端部分位于该主泵送线路之内，该吸盘真空线路的该末端部分的一指向大致为平行该主泵送线路的一指向，以预防制程副产物堆积于该主泵送线路的多个内壁上；一气流加速器，其位于该主泵送线路之内并在该吸盘真空线路的该末端部分周围；以及一泵浦，其连结至该主泵送线路，用以使该制程气体通过该主泵送线路从该制程腔室主体移除，并用以使该真空透过该吸盘真空线路施加于该吸盘。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 台湾积体电路制造股份有限公司 半导体制程工具、气流加速器及处理半导体装置的方法
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