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申请/专利权人：三星显示有限公司
摘要：提供了一种等离子体处理装置。所述等离子体处理装置包括：腔室；多个介电窗，覆盖腔室的顶部；盖框架，在同一平面上支撑所述多个介电窗；多个支撑杆，支撑盖框架的顶部；以及多个天线，位于所述多个介电窗上方，其中，所述多个天线包括位于由所述多个支撑杆限定的区域内部并具有环形形式的第一天线以及位于由所述多个支撑杆限定的区域外部并具有环形形式的第二天线，并且第一天线中的第一电流方向与第二天线中的第二电流方向彼此相同。
主权项：1.一种等离子体处理装置，所述等离子体处理装置包括：腔室；多个介电窗，覆盖所述腔室的顶部；以及多个注射喷嘴，位于所述多个介电窗的一部分处，其中，所述多个注射喷嘴包括：多个第一注射喷嘴，位于多个第一介电窗处，所述多个第一介电窗位于所述多个介电窗的最外部处；以及多个第二注射喷嘴，位于由所述多个第一介电窗围绕的第二介电窗处。
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