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申请/专利权人:东京毅力科创株式会社
摘要:本发明提供等离子体处理装置和等离子体处理方法。本发明能够抑制在载置台与被处理体之间发生放电。等离子体处理装置包括:载置台,其载置作为等离子体处理的对象的被处理体,并作为下部电极发挥作用;直流电源,其交替地产生施加到载置台的正直流电压和负直流电压;测量载置于载置台的被处理体的电压的测量部;计算部,其基于测量出的被处理体的电压,计算将负直流电压施加到载置台的期间的、载置台与被处理体之间的电位差;和电源控制部,其控制直流电源,以使得施加到载置台的负直流电压的值的电位差变化使计算出的电位差减少的变化量。
主权项:1.一种等离子体处理装置,其特征在于,包括:处理容器;设置于所述处理容器的基片载置台;设置于所述基片载置台的偏置电极;直流电源,其与所述偏置电极电连接,能够对所述偏置电极施加脉冲直流电压;和控制器,所述控制器构成为能够执行以下处理:第一处理,计算所述脉冲直流电压的低水平部分被施加到所述偏置电极的期间的、载置于所述基片载置台的基片与所述偏置电极之间的电位差;第二处理,判断所述电位差是否大于预先设定的阈值;和第三处理,调整所述脉冲直流电压的参数。
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权利要求:
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