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用于光栅电子束曝光设备的监测掩模版 

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申请/专利权人:上海凸版光掩模有限公司

摘要:本实用新型提供一种用于光栅电子束曝光设备的监测掩模版,包括:掩模版;多个监测图案组,多个监测图案组设置于掩模版上,其中,多个监测图案组排布成包含正交的多行和多列的阵列,每个监测图案组包括间隔排布的多个监测图案,多个监测图案的尺寸依次递减,分别用于监测束斑直径依次递减的电子束,监测图案包括沿行方向延伸的第一矩形图案和沿列方向延伸的第二矩形图案,第一矩形图案和第二矩形图案相交成十字形图案。本实用新型仅需通过改变曝光的电子束束斑,可以通过同一块监测掩模版同时得到多种曝光束斑情形下的曝光状况,不需要重复更换不同的掩模版,从而大大节省监测的步骤和成本。

主权项:1.一种用于光栅电子束曝光设备的监测掩模版,其特征在于,所述监测掩模版包括:掩模版;多个监测图案组,多个所述监测图案组设置于所述掩模版上,其中,多个所述监测图案组排布成包含正交的多行和多列的阵列,每个所述监测图案组包括间隔排布的多个监测图案,多个所述监测图案的尺寸依次递减,分别用于监测束斑直径依次递减的电子束,所述监测图案包括沿行方向延伸的第一矩形图案和沿列方向延伸的第二矩形图案,所述第一矩形图案和第二矩形图案相交成十字形图案。

全文数据:

权利要求:

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