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屏蔽盖及其制作方法、电子设备 

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申请/专利权人:维沃移动通信有限公司

摘要:本申请公开了一种屏蔽盖及其制作方法、电子设备,属于电子技术领域。其中屏蔽盖包括屏蔽盖本体,所述屏蔽盖本体的至少一侧边经切割形成裸露区域,所述裸露区域的状态包括第一状态和第二状态中的至少之一,其中,在所述第一状态下,所述裸露区域沿对应侧边的长度方向连续,且在所述屏蔽盖本体的厚度方向上,所述裸露区域的尺寸小于所述屏蔽盖本体的厚度;在所述第二状态下,所述裸露区域沿对应侧边的长度方向间断;电镀层,所述电镀层覆盖所述屏蔽盖本体的除所述裸露区域之外的区域。

主权项:1.一种屏蔽盖,其特征在于,包括:屏蔽盖本体,所述屏蔽盖本体的至少一侧边经切割形成裸露区域,所述裸露区域的状态包括第一状态和第二状态中的至少之一,其中,在所述第一状态下,所述裸露区域沿对应侧边的长度方向连续,且在所述屏蔽盖本体的厚度方向上,所述裸露区域的尺寸小于所述屏蔽盖本体的厚度;在所述第二状态下,所述裸露区域沿对应侧边的长度方向间断;电镀层,所述电镀层覆盖所述屏蔽盖本体的除所述裸露区域之外的区域。

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权利要求:

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