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申请/专利权人：青岛欣宇超新材料有限公司
摘要：本发明涉及真空镀膜设备技术领域，且公开了一种DLC涂层镀膜设备，包括真空腔体和基片，所述真空腔体内壁的底端固定设置有用于承载基片的基座，所述真空腔体的顶端固定连接有伺服电机，所述伺服电机的输出端固定连接有传动轴，所述传动轴的底端固定连接有支撑杆，所述真空腔体内侧的顶端设置有用于作为靶材的靶环，所述真空腔体内侧的顶端设置有极板。本发明通过传动轴配合支撑杆带动极板和靶环转动，使靶环相对分别在若干个磁控装置下方对应的高密度等离子体区域匀速转动，避免单个磁控装置下方形成对应的“跑道”状蚀刻环形区域，使靶环底部的溅射面溅射蚀刻均匀，保证了溅射面与基片的角度，保证了溅射过程的稳定以及镀膜的质量。
主权项：1.一种DLC涂层镀膜设备，包括真空腔体1，所述真空腔体1内壁的底端固定设置有用于承载基片3的基座2，其特征在于：所述真空腔体1的顶端固定连接有伺服电机7，所述伺服电机7的输出端固定连接有传动轴8，所述传动轴8的底端设置有调整机构，所述真空腔体1内侧的顶端设置有用于作为靶材的靶环10，所述真空腔体1内侧的顶端设置有极板11，所述真空腔体1内壁的顶端固定连接有固定杆4；所述固定杆4的底端固定连接有用于提供溅射磁场的磁控装置5，所述调整机构包括用于带动靶环10和极板11转动，使磁控装置5对应溅射区域相对靶环10扫掠靶环10的溅射面，调整靶环10溅射面的平整度，所述真空腔体1内壁的顶端靠中点处固定连接有滑触杆13。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 青岛欣宇超新材料有限公司 一种DLC涂层镀膜设备
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