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一种具有低杨氏模量、高催化活性的核壳抛光磨粒的制备方法 

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申请/专利权人:大连理工大学

摘要:本发明涉及一种具有低杨氏模量、高催化活性的核壳抛光磨粒的制备方法。所述的核壳抛光磨粒呈现出明显的球形,粒径在100~130nm之间。该核壳抛光磨粒是以介孔SiO2为内核,γ‑Al2O3为中间层,CeO2为外壳的多层核壳磨粒。介孔SiO2内核使整体核壳磨粒具有较低的杨氏模量,降低了磨粒对工件表面的损伤,有利于提高抛光表面质量;γ‑Al2O3中间层的存在限制了光生载流子的重组,提升了CeO2的催化活性,有利于化学机械抛光过程中氧化层的快速形成,提高材料去除率;CeO2外壳一方面作为磨粒,可以起到去除表面氧化层的作用,另一方面也是光催化剂,在紫外光照下可以产生羟基自由基·OH氧化工件表面。使用上述核壳抛光磨粒抛光后,相比于直接使用CeO2,表面粗糙度和材料去除率显著改善。

主权项:1.一种具有低杨氏模量、高催化活性的核壳抛光磨粒的制备方法,其特征在于,以介孔SiO2为内核,γ-Al2O3为中间层,CeO2为外壳,其中介孔SiO2通过液相法合成,γ-Al2O3和CeO2通过非均匀形核法依次在介孔SiO2表面形成。

全文数据:

权利要求:

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