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摘要：本发明实施例提供了一种EML发光功率校准方法、EA负压及电流采样电路及设备。所述方法包括：将EA负压的DAC值分为若干段，获取所述若干段中每一段对应的中心DAC值，根据每一段的中心DAC值，通过更改激光器偏流Bias，校准EML出光功率和EA负压电流‑电压采样ADC值的线性关系，得到每一段的校准系数；获取光功率上报时的实时EA负压值，根据所述实时EA负压值定位相应的DAC值段，采用所述DAC值段中的校准系数对所述DAC值段的光功率进行校准。本发明实施例提供的EML发光功率校准方法、EA负压及电流采样电路及设备，可以校准经过调制器后的模块光功率，获得较高的校准精度。
主权项：1.一种EML发光功率校准方法，其特征在于，包括：将EA负压的DAC值分为若干段，获取所述若干段中每一段对应的中心DAC值，根据每一段的中心DAC值，校准EML出光功率和EA负压电流-电压采样ADC值的线性关系，得到每一段的校准系数；获取光功率上报时的实时EA负压的DAC值，根据所述实时EA负压的DAC值定位相应的DAC值段，采用所述DAC值段中的校准系数对所述DAC值段的光功率进行校准；其中，所述将EA负压的DAC值分为若干段，包括： W＝EAmax-EAminN 其中，N为所述若干段的段数；EAmax为所述EA负压的DAC值的最大值；EAmin为所述EA负压的DAC值的最小值；W为所述每一段的DAC值取值范围；Z为所述若干段中第n段的DAC值的取值范围；所述获取所述若干段中每一段对应的中心DAC值，包括： 其中，K为第n段的中心DAC值；所述采用所述DAC值段中的校准系数对所述DAC值段的光功率进行校准，包括：POWER＝SLOPE*ADCIU+OFFSET其中，POWER为光功率，单位0.1uW；SLOPE和OFFSET为所述DAC值段中的校准系数；ADCIU为EA负压电流经I-U转换后采样值ADC值；对SLOPE和OFFSET进行校准确定，就实现了采用校准系数对EML的发光功率进行校准，校准经过调制器后的模块光功率并对校准后的模块光功率进行上报。
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百度查询： 武汉联特科技有限公司 EML发光功率校准方法、EA负压及电流采样电路及设备
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