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申请/专利权人：昆山中创半导体科技有限公司
摘要：本实用新型提供了一种基于DMD的光刻投影物镜，其包括从物侧到像测依次设置的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组及第四透镜组，所述基于DMD的光刻投影物镜满足下列条件：200mmF1210mm，‑71mmF2‑62mm，61mmF370mm，25mmF433mm，50mmT158mm，45mmT255mm，4.5mmT38.5mm，其中，F1‑F4分别为第一透镜组至第四透镜组的焦距，T1为第一透镜组与第二透镜组的间距，T2为第二透镜组与第三透镜组的间距，T3为第三透镜组与第四透镜组的间距。如此设置，在整体长度较小的情况下，像面的光线集中度高，光学系统畸变小、场曲小、分辨率高，满足光刻曝光所需的成像要求。
主权项：1.一种基于DMD的光刻投影物镜，其特征在于：包括从物侧到像侧沿光轴依次设置的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组及第四透镜组，所述基于DMD的光刻投影物镜满足：200mmF1210mm，-71mmF2-62mm，61mmF370mm，25mmF433mm，50mmT158mm，45mmT255mm，4.5mmT38.5mm，其中，F1为第一透镜组的组合焦距，F2为第二透镜组的组合焦距，F3为第三透镜组的组合焦距，F4为第四透镜组的组合焦距，T1为第一透镜组与第二透镜组之间的间距，T2为第二透镜组与第三透镜组之间的间距，T3为第三透镜组与第四透镜组之间的间距。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 昆山中创半导体科技有限公司 基于DMD的光刻投影物镜
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