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申请/专利权人:中微半导体设备(上海)股份有限公司
摘要:一种用于保护静电夹盘表面的假基片及半导体处理系统,所述静电夹盘具有冷却气体孔,所述冷却气体孔在所述静电夹盘表面具有第一投影,所述假基片包括:假基片本体;清洁孔,贯穿所述假基片本体的厚度,且所述清洁孔在静电夹盘的表面具有第二投影,所述第二投影与第一投影部分重叠。所述半导体处理系统在不开腔的情况下,能够清理冷却气体孔内表面的污染物,且保证所述静电夹盘的表面不受损伤。
主权项:1.一种用于保护静电夹盘表面的假基片,其特征在于,所述静电夹盘具有冷却气体孔,所述冷却气体孔在所述静电夹盘表面具有第一投影,所述假基片包括:假基片本体;清洁孔,贯穿所述假基片本体的厚度,且所述清洁孔在静电夹盘的表面具有第二投影,所述第二投影与第一投影部分重叠。
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百度查询: 中微半导体设备(上海)股份有限公司 用于保护静电夹盘表面的假基片及半导体处理系统
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