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申请/专利权人：山东大学
摘要：本发明提供一种基于离子注入的折射率调控光栅及制作方法，涉及光栅域。该基于离子注入的折射率调控光栅的制作方法，包括以下步骤：S1、光栅基板加工：准备光栅基板，对基板进行清洗与烘干，S2、光刻胶涂覆：在S1中的光栅基板涂覆光刻胶，S3、图形制备：在S2中的光栅基板上制备光栅掩膜图形，S4、光刻腐蚀：对S3中的光栅基板进行光刻，S5、光刻位置涂料涂覆：对刻痕涂覆涂料，S6、注入离子：注入离子对光栅的折射率进行调控。通过在刻痕表面进行光学处理，并在刻痕表面涂覆遮光涂层，使刻痕表面变粗糙，并涂覆上遮光涂料，使光栅的刻痕遮光率增加，提高光栅整体的品质。
主权项：1.一种基于离子注入的折射率调控光栅的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、光栅基板加工：准备光栅基板，对基板进行清洗与烘干；S2、光刻胶涂覆：在S1中的光栅基板涂覆光刻胶；S3、图形制备：在S2中的光栅基板上制备光栅掩膜图形；S4、光刻腐蚀：对S3中的光栅基板进行光刻；S5、光刻位置涂料涂覆：对刻痕涂覆涂料；S6、注入离子：注入离子对光栅的折射率进行调控；所述光刻腐蚀包括以下步骤：光刻位置标记、光刻与刻痕表面处理，所述光刻位置标记通过S3中图形制备对光刻的刻痕位置进行标记，所述光刻对标记位置进行刻痕，所述光刻与刻痕表面处理对刻痕进行光学处理。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 山东大学 一种基于离子注入的折射率调控光栅及制作方法
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