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申请/专利权人：上海奥利实业有限公司
摘要：本发明提出了一种高纯度光甘草定及其制备工艺，属于分离纯化技术领域。包括以下步骤：S1.酶解；S2.超高压提取；S3.深共熔溶剂分离；S4.分子蒸馏纯化；S5.分子印迹聚合物纯化。本发明高纯度光甘草定的制备工艺简单，溶剂消耗量小，分离选择性好，更加绿色环保，效率高，成本低，可以得到工业化应用，得到的光甘草定纯度高，收率高，具有广阔的应用前景。
主权项：1.一种高纯度光甘草定的制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：S1.酶解：将光果甘草渣加入水中，加入复合酶，酶解，得到酶解液；复合酶为纤维素酶和中性蛋白酶的混合物；S2.超高压提取：向步骤S1制得的酶解液中加入氨水-乙醇混合提取液，超高压提取，过滤，干燥，得到提取物；S3.深共熔溶剂分离：将步骤S2制得的提取物加入深共熔溶剂的水溶液中，通入CO2，搅拌提取，过滤，滤液中加入磷酸钠，搅拌反应，静置，离心，收集上清液；所述深共熔溶剂的水溶液的含水量为20wt%-30wt%，所述深共熔溶剂为氯化胆碱和丙三醇按照摩尔比为1:（2-4）混合均匀的溶液；S4.分子蒸馏纯化：将步骤S3中的上清液进行分子蒸馏，加热至85℃-95℃，将馏出物弃除，加热至125℃-135℃，收集馏出物；S5.分子印迹聚合物纯化：将分子印迹聚合物装柱，加入步骤S4中收集的馏出物，乙醇-甲酸混合液洗脱，收集洗脱液，减压除去溶剂，得到高纯度光甘草定；所述分子印迹聚合物的制备工艺如下：T1.将光甘草定、功能单体、交联剂、致孔剂混合，惰性气体保护下，加入引发剂，加热聚合反应，过滤，干燥，研磨制得聚合物；所述功能单体包括1-乙烯基咪唑、4-乙烯基吡啶、甲基丙烯酸丁酯，质量比为（3-5）:（7-10）:（1-3），所述交联剂为二甲基丙烯酸乙二醇酯；T2.将步骤T1制得的聚合物加入索氏提取器中，用洗脱液洗脱至检测不到光甘草定，洗涤聚合物颗粒，过筛，收集200-300目颗粒，干燥，制得分子印迹聚合物。
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