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申请/专利权人：西京学院
摘要：一种温度场分布成像分析系统，包括基底，基底上设有微纳光纤阵列；微纳光纤阵列顶面与面阵CCD底面相贴合；面阵CCD通过传导光纤与图像分析单元相连接；基底上贴微纳光纤阵列一侧还设有条状光源，条状光源通过耦合分光器将光信号分开传导，并耦合进微纳光纤阵列；条状光源发出光信号，当光到达耦合分光器时，分开传导并耦合进微纳光纤阵列中，形成微纳光纤阵列光学倏逝场强度图像，图像分析单元对微纳光纤阵列光学倏逝场强度图像的采集、分析和存储；本发明高灵敏性，可以应用在需要对温度进行高精度感知的情境下，可以捕捉到温度改变的微小变化，并将温度场分布以可视化图像形式呈现，具有结构简单，测量准确，高效实用的优点。
主权项：1.一种温度场分布成像分析系统，包括基底（1），其特征在于：所述基底（1）上设有微纳光纤阵列（5）；微纳光纤阵列（5）顶面与面阵CCD（4）底面相贴合；面阵CCD（4）通过传导光纤（6）与图像分析单元（7）相连接；基底（1）上贴微纳光纤阵列（5）一侧还设有条状光源（2），条状光源（2）通过耦合分光器（3）将光信号分开传导，并耦合进微纳光纤阵列（5）产生光学倏逝场强度图像；该图像经过面阵CCD（4）之后进行采集，再通过传导光纤（6）将图像传至图像分析单元（7）进行分析可以获得温度作用的大小，方向和空间分布；所述基底（1）材料采用表面附有微米级PDMS薄膜的硅片，PDMS薄膜厚度为100-300μm，PDMS薄膜结构在温度的作用下，更容易产生形变，从而提高该系统对于温度的感应灵敏度，发生形变时可产生较为明显的变化，以实现对于形变量的精确测量；当有温度变化时，由于温度导致的形变大小不同，产生微纳光纤阵列（5）的光学倏逝场在表面温度不同时会有很明显的差异，不同光纤外部互相叠加的光学倏逝场的光场分布会随着接触温度的变化，形成可视化的光场分布加以呈现，可被面阵CCD（4）捕获，从而准确获得范围内的温度分布图像。
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权利要求：
百度查询： 西京学院 一种温度场分布成像分析系统
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