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抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法 

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申请/专利权人:湖北鼎龙芯盛科技有限公司;鼎龙(潜江)新材料有限公司;湖北鼎龙控股股份有限公司

摘要:本发明公开了一种抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法。该抗蚀剂组合物包含两种酸扩散抑制剂:A胺化小分子化合物和B胺类聚合物。本发明通过两种酸扩散抑制剂联用的方式,不仅弥补了单独使用酸扩散抑制剂各自固有的缺陷,还对光刻过程中的分辨率和线条粗糙度有了很大的改善。

主权项:1.一种抗蚀剂组合物,其特征在于,包含两种酸扩散抑制剂:A胺化小分子化合物和B胺类聚合物,所述A胺化小分子化合物选自如下式1表示的物质: 式1中,R1表示为甲基、乙基、异丙基、乙酰基、叔丁氧羰基或叔戊氧羰基,m、n表示亚甲基的个数,各自独立的表示1~3的正整数;所述B胺类聚合物选自如下式2表示的物质: 式2中,R1表示为甲基、乙基、异丙基、乙酰基、叔丁氧羰基或叔戊氧羰基,R2表示氢原子、碳数为1~5的烷基或碳数为1~5的卤代烷基,m、n表示亚甲基的个数,各自独立的表示1~3的正整数;所述式2表示的胺类聚合物的重均分子量为1000~20000。

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