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申请/专利权人：奇美实业股份有限公司

摘要：本发明提供一种感光性树脂组成物、硬化膜图案及其制作方法。具体是残膜率佳、解析度佳的感光性树脂组成物、使用此感光性树脂组成物所形成的硬化膜图案及其制作方法。感光性树脂组成物包括含乙烯性不饱和基的聚酰亚胺前驱物A、含乙烯性不饱和基的化合物B、光起始剂C及溶剂D。其中，光起始剂C包含式C‑1所示的化合物，其中式C‑1中的各符号如说明书所定义。

主权项：1.一种感光性树脂组成物，其特征在于，包含：含乙烯性不饱和基的聚酰亚胺前驱物A；含乙烯性不饱和基的化合物B；光起始剂C；以及溶剂D，且其中该聚酰亚胺前驱物A包含如下式A-0所示的重复单元： 在式A-0中，Z1代表四价有机基；Z2代表二价有机基；Z4与Z5分别独立地代表-OZ3或含有乙烯性不饱和基的一价有机基，且Z4与Z5的至少一者代表含有乙烯性不饱和基的一价有机基；Z3代表氢原子、碳数为1至20的烷基或碳数为3至20的环烷基；该光起始剂C包含如下式C-1所示的化合物： 式C-1的结构是由连接基团G和四个单元结构S1、S2、S3及S4所组成，其中所述单元结构S1、S2、S3及S4分别对应地包含上式S1、式S2、式S3及式S4所示的结构；式C-1中，G、S1、S2、S3及S4中至少一者必须含有至少一个片段结构，其中该至少一个片段结构具有如下式Qa、Qb或Qc所示的结构；若式C-1不含有式Qc所示的片段结构时，式C-1中的S1、S2、S3及S4的至少一者含有至少一个NO2取代基； 在式Qa、式Qb及式Qc中，Ra、Rb、Rc、Rd、Re、Rf、Rg及Rh分别独立地与后述R基团的定义相同，其中Ra、Rb、Rc及Rd中的任意二者之间或Re、Rf、Rg及Rh的任意二者之间能够形成一个环状结构；R基团代表氢原子、碳数为1至24且含有一个或多个取代基的支链或直链、碳数为1至24且含有或不含有碳数为3至12的环结构的烷基、碳数为2至24且含有一个或多个取代基的支链或直链、碳数为2至24且含有或不含有碳数为3至12的环结构的烯基、碳数为6至24且未经取代或经取代1至4次的芳基或杂芳基；R基团的链段能够被1至6个非连续的氧原子、氮原子、硅原子或硫原子间断，R基团所含的一个或多个取代基是卤素原子、-OH基、-SH基、-NH2基、-NO2基、-NCO基、-CN基、环氧乙烷基、乙烯醇基、经N-C1-C8烷基所取代的酰亚胺基、-O-C1-C8烷基基、-CO-C1-C8烷基基、-COO-C1-C8烷基基、-CONH-C1-C8烷基基、-NC1-C8烷基2基，其中各个烷基系相同或不相同、-SiC1-C8烷基3基，其中各个烷基系相同或不相同、-OSiC1-C8烷基3基，其中各个烷基系相同或不相同、-NC1-C8烷基-CO-C1-C8烷基基、-NC1-C8烷基-CO-O-C1-C8烷基基、-NC1-C8烷基-CO-C1-C8烷基2基，其中各个烷基系相同或不相同、-SC1-C8烷基基、-SO2C1-C8烷基基、-SO2-O-C1-C8烷基基、-SO2-NC1-C8烷基2基、-PO-O-C1-C8烷基2基，其中各个烷基系相同或不相同、-PO-C1-C8烷基2基，其中各个烷基系相同或不相同、-OCOC1-C8烷基基、-CH＝CH-CO-O-C1-C8烷基基或-C1-C8烷基＝CC1-C8烷基-CO-O-C1-C8烷基基；X是单键、氧原子或硫原子；Ri是与R基团的定义相同，且Ri及磷原子上的其他两个取代基之一者之间也能够形成一个环状结构；Rj是与R基团的定义相同；在式C-1中，k、l、m及n分别独立地代表0至4的整数，k+l+m+n为1至4的整数，且G是k+l+m+n价的连结基团；当k+l+m+n为1时，G是与R基团的定义相同；当k+l+m+n为2时，G是代表单键或一个与R基团的定义相符合的二价连结基团；当k+l+m+n为3或4时，G是与R基团的定义相符合的三价或四价的连结基团；在式C-1中，当k、l、m或n大于或等于2时，这样的单元结构S1、S2、S3及S4在满足其通式结构条件下彼此独立地相同或不同；W1是Wa或Wb；当k、m及n均为0且l为2时，两个W1取代基之一者必须为Wb，其中Wa为氧原子，而Wb为[N-O-CO-Rj]；W2是C＝O、C＝S或单键；W3是氮原子或磷原子；R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R15或R16是彼此独立地代表卤素或与R基团定义相符的一个基团，其中在单元结构S2及S3中，R5和R6彼此独立地为CN或为下述结构之一的基团，其中Rk至Ry彼此独立地与R基团的定义相同，且Rk及RL之间，或Rn及Ro之间，或Ru及Ry之间也能够形成一个环结构； 在单元结构S1中，通过转化Rk至Ry取代基之一者成为相应的二价基团的策略是将下述结构直接嵌入C＝W1与G之间，而形成特征结构片段C＝W1-CRLOH-Rk’-G、C＝W1-CRkOH-RL’-G、C＝W1-CRLORm-Rk’-G、C＝W1-CRkORm-RL’-G、C＝W1-CRkRLO-Rm’-G、C＝W1-CRLNRnRo-Rk’-G、C＝W1-CRkNRnRo-RL’-G、C＝W1-CRkRL-NRn-Ro’-G、C＝W1-CRkRL-NRo-Rn’-G、C＝W1-CORrRp-O-Rq’-G、C＝W1-CORqRp-O-Rr’-G、C＝W1-CORqORr-Rp’-G、C＝W1-CRt[P＝XRuRv]-O-Rs’-G、C＝W1-CRs[P＝XRuRv]-O-Rt’-G、C＝W1-CRtORs-P＝XRu-Rv’-G、C＝W1-CRtORs-P＝XRv-Ru’-G、C＝W1-CRw＝N-O-CO-Rx’-G、C＝W1-C[＝N-O-CORx]-Rw’-G或C＝W1-CORy’-G，其中Rk’至Ry’是所转化的相应的二价基团；R17及R18是彼此独立地代表C1-C8烷基、C2-C12烯基或C6-C12且未取代或经取代的苯基，R17及R18能够形成一个环结构，R17或R18的链段能够被1至4个非连续的氧原子、氮原子、硅原子或硫原子间断；R19及R20是彼此独立地代表C1-C8烷基、C2-C12烯基或C6-C12且未取代或经取代的苯基，R19及R20能够形成一个环结构，R19或R20的链段能够被1至4个非连续的氧原子、氮原子、硅原子或硫原子间断；在式S1与式S2中，M1及M3是彼此独立地代表S、O、CO、Se、SO、SO2、CH2、PR、POR、POOR、NH或NR；在式S1至式S4中，M2、M4、M5及M8是彼此独立地代表无键、单键、S、Se、CO、SO、SO2、NH、NR、PR、POR、POOR或CH2；或M2、M4、M5及R8是彼此独立地也能由二价连结基团变成一个一价芳环取代基，即仅和其中一个芳环相连，此种情况下，M2、M4、M5及R8是彼此独立地代表卤素或是一个和R基团的定义相符的取代基；当k、l或m彼此独立地为1，且k+l+m+n为1，且M2、M4及M5彼此独立地为单键时，R1、R2、W1及G中的至少一者含有式Qa、式Qb或式Qc所式的片段结构的至少一者；或者，R3、R4、R5及G中的至少一者含有式Qa、式Qb或式Qc所式的片段结构的至少一者；或者，R6、R7、R8及R9中的至少一者含有式Qa、式Qb或式Qc所式的片段结构的至少一者；在式S3与式S4中，M6及M9是彼此独立地代表单键或是一个与R基团的定义相符的二价连结基团；在式S1至式S2中，X1、X2、X3或X5是彼此独立地为NO2、CN、CO2H、CF3、结构为RCO-、RCO-CO-、RO-、RS-、RNH-、R2N-、RSO-、RSO2-的取代基或结构为ArCO-的芳酰基或杂芳酰基，其中Ar是含有1至4个相互独立的卤素原子、R、CO2R、COR、OCOR、OR、SR、SOR、SO2R、NHR或NR2取代基的苯基、联苯基、蒽基、萘基、噻吩基、吡咯基、吡啶基、N,S-杂环基或N,N-杂环基；X1、X2、X3或X5彼此亦能独立地为下述形式之一的结构： 其中X4的定义与X1相同；M7的定义与M2相同；R10、R11、R12、R13、R14及R21是彼此独立地定义为与R基团相同；W2为硫原子、氧原子或单键；当W2为硫原子或氧原子时，相应的其对应的X1、X2、X3或X5彼此独立地是一个二价的芳环磷取代基；当W2为单键时，对应的X1、X2、X3或X5彼此独立地是一个芳酰取代基；且当X1、X2、X3或X5是彼此独立地为RCO-或ArCO-的结构时，其能够通过含二价R基团的连结基得到相应的k+l+m+n值大于或等于2的上式C-1结构的化合物。

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