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清洁晶圆的装置和清洁晶圆的方法 

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申请/专利权人:华为技术有限公司

摘要:本申请提供了一种清洁晶圆的装置和清洁晶圆的方法,清洁晶圆的装置包括:第一腔体、第二腔体、第三腔体和晶圆传输装置,第二腔体与第一腔体、第三腔体腔连接,晶圆传输装置用于传递晶圆;第一腔体内设置有第一喷吹装置;第二腔体内设置有等离子清洁装置、第一排气装置和抽真空速率检测装置;第三腔体内设置有第二喷吹装置和第二排气装置。基于上述清洁晶圆的装置和清洁晶圆的方法,清洁晶圆的装置可以有效提高晶圆的洁净度,且清洁晶圆的效率较高。

主权项:1.一种清洁晶圆的装置,其特征在于,包括:第一腔体、第二腔体、第三腔体和晶圆传输装置,所述第二腔体与所述第一腔体、所述第三腔体腔连接,所述晶圆传输装置用于在任意两个连接的腔体之间传递晶圆;所述第一腔体内设置有第一喷吹装置,所述第一喷吹装置用于对晶圆喷吹惰性气体;所述第二腔体内设置有等离子清洁装置、第一排气装置和抽真空速率检测装置,所述等离子清洁装置用于对来自所述第一腔体或所述第三腔体的晶圆喷吹等离子体,所述第一排气装置用于对所述第二腔体进行抽真空,所述抽真空速率检测装置用于检测所述第二腔体达到预设真空度所用的时间;所述第三腔体内设置有第二喷吹装置和第二排气装置,所述第二喷吹装置用于对来自所述第二腔体的抽真空速率合格的晶圆喷吹惰性气体,所述第三排气装置用于对所述第三腔体进行抽真空。

全文数据:

权利要求:

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