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申请/专利权人：苏州润德新材料有限公司
摘要：本发明提供一种新型耐磨环保CMP抛光垫及其制备方法，涉及抛光垫领域。该新型耐磨环保CMP抛光垫，包括主体结构，所述主体结构的下端粘接连接有粘接结构，所述主体结构包括本体层，所述本体层的上下两端分别设置有弹性层和稳定层，所述弹性层和稳定层的另一侧分别设置有润滑层和填料层，所述润滑层的表面涂有涂层，所述主体结构的端面中心处设置有定位凹槽，所述主体结构的上端面上设置有多个宽槽，每相邻两个所述宽槽之间分别设置有多个环槽。通过在主体结构的内部添加涂层、润滑层、弹性层、稳定层和填料层的相关材质，大幅度提高了整体在使用时的耐磨性、硬度和稳定性，确保使用时的安全性，有效地地提高了整体的使用寿命。
主权项：1.一种新型耐磨环保CMP抛光垫，包括主体结构1，其特征在于：所述主体结构1的下端粘接连接有粘接结构2，所述主体结构1包括本体层106，所述本体层106的上下两端分别设置有弹性层105和稳定层107，所述弹性层105和稳定层107的另一侧分别设置有润滑层104和填料层108，所述润滑层104的表面涂有涂层103，所述主体结构1的端面中心处设置有定位凹槽109，所述主体结构1的上端面上设置有多个宽槽101，每相邻两个所述宽槽101之间分别设置有多个环槽102。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 苏州润德新材料有限公司 一种新型耐磨环保CMP抛光垫及其制备方法
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