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申请/专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
摘要：本发明公开了一种直写光刻设备和曝光控制方法，直写光刻设备包括：光源、工件台、至少一排的数字微镜单元、对应每个数字微镜单元的投影系统、散热系统和控制器。其中，工件台上适于放置基板，基板上有光刻膜；数字微镜单元用于对光源投射的光线进行调制以形成数字掩膜图案；投影系统用于将对应的数字微镜单元投射的带有数字掩膜图案的光投影到基板上；散热系统用于对基板进行散热；控制器与每个数字微镜单元、散热系统连接，用于曝光时启动散热系统并根据基板温度与环境温度的差值控制散热系统的散热强度。该设备可以在基板进行光刻阻焊时，通过控制器控制散热系统对基板进行散热，避免基板上奇偶条带光刻膜在按先后顺序曝光后具有奇偶性规律的油墨颜色差异。
主权项：1.一种直写光刻设备，其特征在于，包括：光源；工件台，所述工件台上适于放置基板，所述基板上有光刻膜；至少一排的数字微镜单元，所述数字微镜单元用于对光源投射的光线进行调制以形成数字掩膜图案；对应每个所述数字微镜单元的投影系统，所述投影系统用于将对应的所述数字微镜单元投射的带有所述数字掩膜图案的光投影到所述基板上，其中，所述基板上的光刻膜以奇偶条带的形式进行曝光并且所述奇偶条带的曝光顺序存在先后；散热系统，所述散热系统用于对所述基板进行散热；控制器，所述控制器与每个所述数字微镜单元、所述散热系统连接，用于曝光时启动所述散热系统并根据基板温度与环境温度的差值控制所述散热系统的散热强度。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 合肥芯碁微电子装备股份有限公司 直写光刻设备和曝光控制方法
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