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申请/专利权人：海门弘鼎电子科技有限公司
摘要：本发明涉及金属镀膜领域的一种带有高精度靶向装置的物理气相沉积仪，在具有磁控组件的基础上还设有可收卷的掩膜，利用移动掩膜上的镀膜窗口对基片不同部位的镀膜位置进行逐个镀膜，便于单独控制各个镀膜位置的镀膜厚度，并降低磁控方式引导粒子到达指定镀膜位置的控制难度，实现同一基片上不同位置的差异化的镀膜作业，满足多样化的镀膜需求，与磁控组件配合进一步优化溅射过程，提高镀膜精度和质量；另外，绕卷装置对高能粒子冲击下的掩膜进行释放和收卷，对受损的掩膜进行更换，减少高能粒子击穿掩膜的情况，进一步提高镀膜质量。
主权项：1.一种带有高精度靶向装置的物理气相沉积仪，其特征在于，包括真空箱（1）和靶向装置；所述靶向装置包括安装在真空箱（1）上部的磁控组件（2），磁控组件（2）下方设有与真空箱（1）内壁固定连接的背板（3），背板（3）下方固定连接有靶材盘（4），靶材盘（4）下方设有用来承载基片（6）的基座（5），真空箱（1）位于背板（3）下方的腔体连通有注气管（7）；所述靶向装置还包括设置在基片（6）上方的掩膜（8），掩膜（8）上开设有供溅射粒子穿越的镀膜窗口（801），掩膜（8）两侧连接有一对镜像设置的绕卷装置（9），绕卷装置（9）包括绕卷筒（10），绕卷筒（10）内嵌套有沿其轴向设置且连接有驱动电机的绕卷辊（11），绕卷辊（11）上绕卷有涡卷弹簧（12），涡卷弹簧（12）外侧绕卷有掩膜（8）绕卷成型的膜卷（13），绕卷辊（11）内掐套有与涡卷弹簧（12）内壁抵接的压力传感器（14）。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 海门弘鼎电子科技有限公司 一种带有高精度靶向装置的物理气相沉积仪
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