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申请/专利权人：无锡尚积半导体科技有限公司
摘要：本申请公开了一种层级式静电吸附刻蚀装置，包括工作室、载台、第一静电吸盘和第二静电吸盘，第一静电吸盘和第二静电吸盘设于工作室内、并处于载台上方，静电吸盘能够吸引杂质颗粒附着，从而保证腔内环境清洁、延长腔体维护保养周期、提高设备运行效率；第二静电吸盘上设有第一穿孔，杂质颗粒能够通过第一穿孔朝向第一静电吸盘运动；第一静电吸盘的吸引力大于第二静电吸盘的吸引力；在第一静电吸盘下方增设吸引力较小的第二静电吸盘，既不会影响载台对正离子的吸引、又能够很好地诱导飞溅角度小、飞溅高度低的杂质颗粒向上运动；使得杂质颗粒主要附着到第一静电吸盘上，能够让杂质颗粒远离刻蚀气体气源，从而避免气流扰动已经被吸附杂质颗粒。
主权项：1.一种层级式静电吸附刻蚀装置，其特征在于，包括：工作室（110），用于为晶圆刻蚀提供空间；载台（120），设于所述工作室（110）内，用于承接晶圆；第一静电吸盘（210），设于所述工作室（110）内、并处于所述载台（120）上方；第二静电吸盘（220），设于所述工作室（110）内、并处于所述第一静电吸盘（210）和所述载台（120）之间；刻蚀过程中，所述第一静电吸盘（210）和所述第二静电吸盘（220）通电、具有电场吸引力、能够吸引杂质颗粒附着；其中，所述第二静电吸盘（220）上设有第一穿孔（220a），杂质颗粒能够通过所述第一穿孔（220a）朝向所述第一静电吸盘（210）运动；所述第一静电吸盘（210）的吸引力大于所述第二静电吸盘（220）的吸引力。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 无锡尚积半导体科技有限公司 层级式静电吸附刻蚀装置
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