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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：等离子体处理装置具备：处理容器；载置台，其设置于处理容器内，所述载置台具有基板载置面、以及包围基板载置面的外周的环构件载置面；环，其载置于环构件载置面；第一升降机构，其具备用于支承基板的第一升降销；第二升降机构，其具备用于支承环的第二升降销；以及控制部。控制部构成为执行处理a和处理b。在处理a中，在控制第一升降机构来通过第一升降销支承了基板假片的状态下，使用等离子体对处理容器内进行清洁。在处理b中，在控制第二升降机构来通过第二升降销支承了环的状态下，使用等离子体对处理容器内进行清洁。
主权项：1.一种等离子体处理装置，具备：处理容器；载置台，其设置于所述处理容器内，所述载置台具有基板载置面、以及包围所述基板载置面的外周的环构件载置面；环，其载置于所述环构件载置面；第一升降机构，其具备用于支承基板的第一升降销；第二升降机构，其具备用于支承环的第二升降销；以及控制部，其中，所述控制部构成为执行以下处理：处理a，在控制所述第一升降机构来通过所述第一升降销支承了基板假片的状态下，使用等离子体对所述处理容器内进行清洁；以及处理b，在控制所述第二升降机构来通过所述第二升降销支承了环的状态下，使用等离子体对所述处理容器内进行清洁。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 等离子体处理装置
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