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一种等离子体密度控制系统及方法 

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申请/专利权人:江苏鲁汶仪器股份有限公司

摘要:本发明公开了一种等离子体密度控制系统及方法,包括离子源、反应腔室、挡片机构和法拉第杯组;法拉第杯组设在与屏栅正对应的反应腔室壁面上,包括法拉第杯安装架和至少N个法拉第杯;N个法拉第杯与屏栅上N组屏栅环状孔的位置相对应;挡片机构包括驱动装置控制器和至少两组挡片组件;每组挡片组件均包括若干个挡片和挡片驱动装置;若干个挡片均沿放电腔尾端周向均匀布设;每个挡片均能旋转伸入放电腔内,遮挡进入屏栅环状孔的等离子体;挡片组件间的挡片交替布设,挡片组件间的挡片形状不同。本发明能对离子源引出的离子束密度进行测量,并对等离子体密度进行实时控制,有效解决由于工艺条件改变而导致的刻蚀不均匀问题,并减小生产成本。

主权项:1.一种等离子体密度控制系统,其特征在于:包括离子源、反应腔室、挡片机构和法拉第杯组;离子源包括从外至内同轴设置的离子源腔和放电腔,在离子源腔的尾端设置屏栅;屏栅沿径向布设有N组屏栅环状孔;法拉第杯组包括法拉第杯安装架和至少N个法拉第杯;法拉第杯安装架设置在与屏栅正对应的反应腔室壁面上;其中的N个法拉第杯与N组屏栅环状孔的位置相对应;挡片机构包括驱动装置控制器和至少两组挡片组件;每组挡片组件均包括若干个挡片和挡片驱动装置;若干个挡片均沿放电腔尾端周向均匀布设;每个挡片均能在挡片驱动装置的驱动下,旋转伸入放电腔内,遮挡进入屏栅环状孔的等离子体;挡片组件间的挡片交替布设,挡片组件间的挡片形状不同;所有挡片驱动装置和所有法拉第杯均与驱动装置控制器相连接。

全文数据:

权利要求:

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