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申请/专利权人：株式会社尼康
摘要：一种处理系统及处理方法，测量光对工件的照射被因加工光对工件的照射而产生的物质妨碍的可能性变低。一种处理系统，其是将来自加工光源的加工光照射至物体的至少一部分而对所述物体进行加工处理的处理系统，包括：合成光学系统，将来自测量光源的测量光的光路与来自所述加工光源的所述加工光的光路合成；照射光学系统，将来自所述合成光学系统的所述加工光及所述测量光照射至所述物体；位置变更装置，变更所述物体与来自所述照射光学系统的所述加工光的聚光位置之间的相对位置关系；光接收装置，经由所述照射光学系统来接收通过照射至所述物体的表面的所述测量光而产生的光；及控制装置，使用来自所述光接收装置的输出，来控制所述位置变更装置。
主权项：1.一种处理系统，其是将来自加工光源的加工光照射至物体的至少一部分而对所述物体进行加工处理的处理系统，其特征在于，包括：合成光学系统，将来自测量光源的测量光的光路与来自所述加工光源的所述加工光的光路合成；照射光学系统，将来自所述合成光学系统的所述加工光及所述测量光照射至所述物体；光接收装置，经由所述照射光学系统来接收通过照射至所述物体的表面的所述测量光而产生的光；照射位置变更光学系统，变更所述照射光学系统的聚焦位置；位置变更装置，变更所述物体与来自所述照射光学系统的所述加工光以及所述测量光的至少一者的光的相对位置关系；以及控制装置，在控制所述位置变更装置时，使用来自所述光接收装置的输出来求出所述照射光学系统与所述物体之间的距离信息，并使用所述距离信息来控制所述照射位置变更光学系统。
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