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一种高分子添加剂辅助9,10-二苯乙炔基蒽单晶生长的方法 

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申请/专利权人:西北工业大学

摘要:本发明提供了一种高分子添加剂辅助9,10‑二苯乙炔基蒽单晶生长的方法,解决现有方法生长的BPEA晶体存在沿π‑π堆叠方向生长取向严重,单晶生长尺寸小、长宽比高、质量差,难以发挥其单晶优势的技术问题。该方法将提纯后的原料晶体粉末溶解在有机溶剂中,配制溶液,并加入高分子添加剂聚乙烯吡咯烷酮PVP,且PVP浓度为0.25~1.25mgml,过滤后使用带有通孔的封口膜进行密封,随后恒温静置挥发3~20天,便可得到高质量、低长宽比的BPEA单晶。

主权项:1.一种高分子添加剂辅助9,10-二苯乙炔基蒽单晶生长的方法,其特征在于,包括以下步骤:S1、原料提纯:在温度为T1的恒温环境下,将9,10-二苯乙炔基蒽原料溶解在第一有机溶剂中,配制饱和溶液,抽滤以去除杂质,静置挥发,得到9,10-二苯乙炔基蒽沉淀并烘干;其中,T1为40-60℃;S2、溶液配制:将S1提纯后的9,10-二苯乙炔基蒽原料溶解于温度为T2的第二有机溶剂中,配制欠饱和溶液,并加入聚乙烯吡咯烷酮,之后在温度为T3的恒温环境下搅拌均匀;其中,聚乙烯吡咯烷酮的浓度为0.25~1.25mgml;T2为20~35℃;T2≤T3≤T2+10℃;S3、溶液过滤:在温度为T4的恒温环境下,采用有机针头过滤器对S2配制的溶液进行过滤,收集滤液;其中,T2≤T4≤T2+10℃;S4、溶剂挥发:使用设置有通孔的封口膜将S3得到的滤液封口,并在与S2配置溶液温度相同的恒温环境下,静置挥发3~20天;S5、挥发结晶:待9,10-二苯乙炔基蒽晶体生长结束后,在温度为T5的恒温环境下,取出晶体清洗并干燥,得到9,10-二苯乙炔基蒽单晶;其中,T2≤T5≤T2+10℃。

全文数据:

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